（RO）反滲透 + （EDI）電去離子工藝
產(chǎn)水符合電子工業(yè)用水 (水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，12MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)。
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質技術分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質。
電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下幾種：
(1)采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。
(2)采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?rarr;多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。
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